Zemax OpticStudio 成像设计培训课程
课程介绍：
本课程为 3 天中高阶成像设计课程，课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评 价、热分析、鬼像分析、公差分析、像差概念及 Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换 等，及相应的实例镜头、棱镜建模等。
课表安排：
| 上课时间 | 第1天 | 第2天 | 第3天 |
| 9:00- 10:30 | OpticStudio 软件功能介绍； 材料库、镜头库介绍； 如何定义新材料; 如何使用镜头库； | MTF； 双高斯镜头设计及优化； 像质评价与图像模拟； | 分析工具应用； 寻找最佳非球面； 曲率套样板； 镜头匹配工具； |
| 10:30- 10:45 | 茶歇 | ||
| 10:45- 12:00 | 像差理论介绍； Zemax 里像差分析图谱； | 坐标变换； 坐标断点面的使用技巧； 序列模式棱镜建模； 扫描反射镜设计实例； | Zemax 公差分析功能介绍； 加工误差、装配误差； 灵敏度分析； 反灵敏度分析； 蒙特卡罗分析； |
| 12:00- 13:30 | 午餐 | ||
| 13:30- 15:00 | 优化； 局部优化； 全局优化； 锤形优化； 优化函数架构技巧； 单透镜优化实例； 双胶合优化实例； | 柯勒照明综合设计实例； 投影系统设计； 集光系统设计； | 公差评价标准； 公差操作数； 补偿变量的使用； 单透镜公差分析； 库克镜头公差分析； 分析报告查看说明； |
| 15:00- 15:15 | 茶歇 | ||
| 15:15- 17:00 | 热分析及衍射光学元件的使用； 鬼像分析、杂散光分析； 实例设计及分析; 小结及答疑； | 暗盒系统介绍； 小结及答疑； | 公差脚本的使用； 镜头出图、CAD 出图； 小结及答疑； |
