【线上培训】Zemax 成像设计课程招生中

培训大纲

01 OpticStudio 软件功能介绍;
02 材料库、镜头库介绍；
03 如何定义新材料；
04 如何使用镜头库；
05 像差理论介绍；
06 Zemax 里像差分析图谱；
07 优化;
08 局部优化
09 全局优化；
10 锤形优化；
11 优化函数架构技巧；
12 单透镜优化实例;
13 双胶合优化实例；
14 热分析及衍射光学元件的使用;
15 实例设计及分析；
16 MTF
17 双高斯镜头设计及优化；
18 像质评价与图像模拟；
19 坐标变换；
20 坐标断点面的使用技巧;
21 序列模式棱镜建模；
22 扫描反射镜设计实例；
23 柯勒照明综合设计实例；
24 投影系统设计;
25 集光系统设计；
26 暗盒系统介绍；
27 分析工具应用；
28 寻找最佳非球面;
29 曲率套样板；
30 镜头匹配工具；
31 Zemax 公差分析功能介绍;
32 加工误差、装配误差；
33 灵敏度分析;
34 反灵敏度分析;
35 蒙特卡罗分析;
36 公差评价标准；
37 公差操作数；
38 补偿变量的使用；
39 单透镜公差分析；
40 库克镜头公差分析；
41 分析报告查看说明；
42 公差脚本的使用；
43 镜头出图、CAD 出图；
44 小结及答疑