线上培训(第21期) | Ansys Zemax 成像设计 招生中!!


培训大纲

01 OpticStudio 软件功能介绍;
02 材料库、镜头库介绍;
03 如何定义新材料;
04 如何使用镜头库;
05 像差理论介绍;
06 Zemax 里像差分析图谱;
07 优化;
08 局部优化
09 全局优化;
10 锤形优化;
11 优化函数架构技巧;
12 单透镜优化实例
13 双胶合优化实例;
14 热分析及衍射光学元件的使用;
15 实例设计及分析;
16 MTF
17 双高斯镜头设计及优化;
18 像质评价与图像模拟;
19 坐标变换;
20 坐标断点面的使用技巧
21 序列模式棱镜建模;
22 扫描反射镜设计实例;
23 柯勒照明综合设计实例;
24 投影系统设计
25 集光系统设计;
26 暗盒系统介绍;
27 分析工具应用;
28 寻找最佳非球面
29 曲率套样板;
30 镜头匹配工具;
31 Zemax公差分析功能介绍;
32 加工误差、装配误差;
33 灵敏度分析;
34 反灵敏度分析;
35 蒙特卡罗分析;
36 公差评价标准;
37 公差操作数;
38 补偿变量的使用;
39 单透镜公差分析;
40 库克镜头公差分析;
41 分析报告查看说明;
42 公差脚本的使用;
43 镜头出图、CAD 出图;
44 小结及答疑。

培训信息

主办单位:武汉宇熠科技有限公司
会议主题:Zemax 成像设计
培训讲师:武汉宇熠科技有限公司光学高级工程师
培训时间:2022年10月26日- 27日(9:00-17:00)
培训费用:¥ 1980元 / 人
三人及以上组团报名可享受八折优惠!
报名方式:扫码报名