Ansys Zemax 成像设计专项培训：新班招生正式启动

当前光电技术正高速发展，光学成像系统的设计精度与效率，直接决定了产品的核心竞争力。Zemax 作为光学设计领域的专业工具，更是从业者提升工作效能的实用利器。

武汉宇熠科技特于2025年12月17日-19日在湖北武汉，推出本次聚焦成像设计方向的专项培训，本次培训旨在帮助相关领域技术人员突破成像设计中的理论瓶颈与实操痛点，切实掌握 Zemax 软件在成像系统开发中的核心应用。

培训大纲

第一天

1. Ansys Zemax OpticStudio 简介
2. 数据库；镜头库，材料库
3. 玻璃材料以及如何定义新材料
4. 像差简介以及OpticStudio 中的像差图表
5. 优化
6. 局部/全局/锤形优化/优化操作
7. 优化实例:单透镜/双透镜
8. 热分析
9. 二元面及衍射光学表面
10. 鬼像及杂散光分析

第二天

1. 调制传递函数和成像质量评估
2. 双高斯镜头的设计与优化
3. OpticStudio 中的坐标系统
4. 坐标间断面及其使用技巧
5. 序列模式中的棱镜模型
6. 实例：扫描振镜
7. 双高斯镜头的设计与优化
8. 转换为非序列模式
9. 黑盒系统
10. Opticstudio中的优化工具

第三天

1. 寻找最佳非球面 / 转换非球面类型
2. 公差分析简介
3. 制造误差和装配误差
4. 公差评价标准
5. 灵敏度/反灵敏度/蒙特卡罗分析
6. 公差补偿器
7. 公差操作数
8. 公差示例：对单透镜 / 库克三片镜进行公差分析
9. 公差报告
10. 镜片 / CAD 制图

培训详情

1、培训信息

• 课程主题：Ansys Zemax 成像设计
• 主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• 培训讲师：宇熠资深光学工程师
• 培训时间:2025年12月17日-19日(9:00-17:00)
• 课程费用：3980元/人
• 培训地点：湖北武汉

2、注意事项

• 发票统一开“培训服务费”；
• 本次培训提供培训证书；
• 三人及以上组团报名可享受八折优惠；
• 费用含培训、教材、发票和证书，其他费用自理；
• 为提高培训效率，本次培训采用小班授课模式。培训名额有限，欲报从速；
• 如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。

3、报名方式